Caracterización de películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN) fabricadas por la técnica de erosión iónica

Se utilizó la técnica de erosión iónica reactiva para fabricar un conjunto de películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN) a temperatura ambiente. Las muestras se analizaron por medio de difracción de rayos X y de espectroscopia de fotoemisión de electrones (XPS: X-ray photoemission spectroscopy) para analizar sus propiedades estructurales y electrónicas, respectivamente. Dependiendo de las condiciones experimentales de depósito, las películas presentan crecimiento policristalino de microestructura hexagonal (tipo wurzita, simetría P63m3) o cúbica (tipo zincblenda, simetría Fm3m). Durante el depósito, el oxígeno compite con el nitrógeno en términos energéticos para enlazarse con el aluminio, tal como lo sugiere el análisis por XPS. Asimismo, el oxígeno puede inducir en las muestras un grado de crecimiento amorfo