Formation of miror surface related to eye aberration

Bakalaura darbs ir uzrakstīts latviešu valodā uz 41 lapām, satur 28 attēlus un 2 tabulas, 28 literatūras atsauksmes. Darba mērķis: Izveidot spoguļvirsmu no fotoinducētās As-S-Se plānās kārtiņas plāksnītes atbilstoši subjekta augstāku kārtu aberācijām. Subjekts: Eksperimentā piedalījās viens subjekts. Labākais redzes asums abām acīm 1,2. Nav bijušas nopietnas acs saslimšanas un veikta refraktīvā lāzerķirurģija. Metodes: As-S-Se plānās kārtiņas biezuma izmaiņu pētījumi dažādos apgaismošanas un kodināšanas apstākļos. Kā arī acs aberāciju mērījumi ar Shack-Hartmann viļņu frontes sensoru un caurspīdīga maskas izveide, caur kuru apgaismo As-S-Se plāno kārtiņu, lai iegūtu acs aberācijām atbilstošu spoguļvirsmu. Rezultāti un secinājumi: Palielinoties As-S-Se plānās kārtiņas virsmas apgaismojumam, pieaug tās kodināšanās lielums un samazinās virsmas biezums. Nepieciešamais plānās kārtiņas dziļums ir 0,6 Ām, lai koriģētu subjekta augstāku kārtu aberācijas. Izstrādātā eksperimentu apstākļu metodika nebija optimāla, lai iegūtu acs aberācijām atbilstošu spoguļvirsmu. Atslēgas vārdi: As-S-Se plānās kārtiņas, acs aberācijas, adaptīvā optika redzes zinātnēPurpose: Purpose of this study was to make a mirror surface related to eye aberration from photoinduced amorphous chalogenide thin film. Subjects: Were assessed one subject without any eye diseases. Both best visual acuity of both eye are 1,2. Methods: This studies reports As-S-Se thin film chemical etching using noncoherent light at different exposure and etching condition. Subject’s eye aberration measurements with Shack- Hartmann wave front sensor and creation of transparent mask, through which As-S-Se thin layer is illuminated, to get eye aberration suitable mirror surface. Results: Results from research indicated, that thin film layer thickness decrease with etching time. Obtained depth of the correction plate is 0,6 Ām, which is enough to fullfill the needs of the correction. However, available technique is showed to be unsufficient to develop the surface with high precision. Conclusions: Aberrometric results of the phase plate indicate that the maximum depth of phase plate is not yet optimum for our subject. Keywords: Amourphous chalogenide As-S-Se thin films, photoinduced wet etching, eye aberration