Add to ORKG采用BCl_3和Ar作为刻蚀气体对GaAs、AlAs、DBR反应离子刻蚀的速率进行了研究，通过控制反应的压强、功率、气体流量和气体组分达到对刻蚀速率的控制。实验结果表
用MBE生长设备制造了GaAs/Si/AlAs异质结，通过CV法研究了异质结的带阶和GaAs层在不同温度下生长对0．5分子层Si夹层的影响，得到Si夹层的空间分布随GaAs层生长温度的升高而由局域变为...
成功研制了光子晶体垂直腔面发射激光器，实现了连续电注入激射，工作波长为850nm，最小阈值为2mA，最大阈值为13．5mA，其中光子晶体的晶格常数在0．5～3μm范围，占空比在0.3～0．7范围．发现...
测量并分析了InGaAs/GaAs应变量子阱中的激子发光衰退特性,研究了激子发光寿命与In组分和阱宽的关系。发现In组分增大时,激子寿命变短,而发光寿命与阱宽的关系不大。文章分析了影响发光寿命的诸多因...
早稲田大学理学博士制度:新 ; 文部省報告番号:乙639号 ; 学位の種類:理学博士 ; 授与年月日:1987-10-15 ; 早大学位記番号:新1376 ; 理工学図書館請求番号:1172thesi
制度:新 ; 文部省報告番号:甲1529号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2001/3/15 ; 早大学位記番号:新3118 ; 理工学図書館請求番号:2550本文PDFは平成22年度...
早稲田大学博士(工学)制度:新 ; 文部省報告番号:乙895号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1992-06-18 ; 早大学位記番号:新1822 ; 理工学図書館請求番号:1555t...
報告番号: 乙13197 ; 学位授与年月日: 1997-02-13 ; 学位の種別: 論文博士 ; 学位の種類: 博士(工学) ; 学位記番号: 第13197号 ; 研究科・専攻: 工学系研究科電子...
4d过渡杂质Mo、Pd在GaAs中分别引入E（0．42eV）、H（0．61eV）和E（0．66eV）、H（0．69eV）等能级。根据过渡杂质Mo和Pd在GaAs中的光电行为, 推测这些杂质在GaAs中...
评述了当前高速发展的信息技术对化合物半导体的市场，特别是以分子束外延材料市场的推动。介绍了实验室研制的高性能MBE二维材料及其器件的应用结果。讨论了我国MBE GaAs材料的产业化进展
报道用MOCVD方法制作高质量的InGaAs/GaAs应变量子阱材料.单量子阱样品在室温光伏谱中出现清晰的11H、12H、21H和22H激子吸收峰.首次用室温光伏方法研究表面自建电场导致InGaAs/...
早稲田大学博士(工学)制度:新 ; 文部省報告番号:乙1358号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1998-03-5 ; 早大学位記番号:新2633 ; 理工学図書館請求番号:2214t...
我们利用光学衍射仪对离子注入后GaAs中晶态区与非晶态区界面的高分辨晶格象进行了分析。得到了界面附近结构变化的初步结果。由非晶态区到晶态区存在如下五个区域:非晶区;晶核与低维有序区;多晶区;单晶畸变区...
GaAs 的离子注入已被广泛地应用在半导体器件制作中。由于 GaAs 电子有效质量只是 Si 的7%,而且它的能带间隙比 Si 要宽,因而它被广泛地应用在高速集成电路、光电器件、激光器件中。
本文研究了ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ双异质结光波导开关内波导层带隙的载流子注入感生变化．给出了带隙变化值随注入载流子浓度变化的关系曲线，并与带填充理论和带隙收缩理论的计算结果进行了对比分析．中文核心期刊要...
报道了GaAs/GaAlAs多量子阱(MQW)双区共腔(CCTS)结构的双稳态激光器.该器件利用多次离子注入形成电隔离很好的双电极结构,吸收区上加上一定反偏电压时得到了双稳特性,观察到了器件工作于双稳...
用MBE生长设备制造了GaAs/Si/AlAs异质结，通过CV法研究了异质结的带阶和GaAs层在不同温度下生长对0．5分子层Si夹层的影响，得到Si夹层的空间分布随GaAs层生长温度的升高而由局域变为...
成功研制了光子晶体垂直腔面发射激光器，实现了连续电注入激射，工作波长为850nm，最小阈值为2mA，最大阈值为13．5mA，其中光子晶体的晶格常数在0．5～3μm范围，占空比在0.3～0．7范围．发现...
测量并分析了InGaAs/GaAs应变量子阱中的激子发光衰退特性,研究了激子发光寿命与In组分和阱宽的关系。发现In组分增大时,激子寿命变短,而发光寿命与阱宽的关系不大。文章分析了影响发光寿命的诸多因...
早稲田大学理学博士制度:新 ; 文部省報告番号:乙639号 ; 学位の種類:理学博士 ; 授与年月日:1987-10-15 ; 早大学位記番号:新1376 ; 理工学図書館請求番号:1172thesi
制度:新 ; 文部省報告番号:甲1529号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2001/3/15 ; 早大学位記番号:新3118 ; 理工学図書館請求番号:2550本文PDFは平成22年度...
早稲田大学博士(工学)制度:新 ; 文部省報告番号:乙895号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1992-06-18 ; 早大学位記番号:新1822 ; 理工学図書館請求番号:1555t...
報告番号: 乙13197 ; 学位授与年月日: 1997-02-13 ; 学位の種別: 論文博士 ; 学位の種類: 博士(工学) ; 学位記番号: 第13197号 ; 研究科・専攻: 工学系研究科電子...
4d过渡杂质Mo、Pd在GaAs中分别引入E（0．42eV）、H（0．61eV）和E（0．66eV）、H（0．69eV）等能级。根据过渡杂质Mo和Pd在GaAs中的光电行为, 推测这些杂质在GaAs中...
评述了当前高速发展的信息技术对化合物半导体的市场，特别是以分子束外延材料市场的推动。介绍了实验室研制的高性能MBE二维材料及其器件的应用结果。讨论了我国MBE GaAs材料的产业化进展
报道用MOCVD方法制作高质量的InGaAs/GaAs应变量子阱材料.单量子阱样品在室温光伏谱中出现清晰的11H、12H、21H和22H激子吸收峰.首次用室温光伏方法研究表面自建电场导致InGaAs/...
早稲田大学博士(工学)制度:新 ; 文部省報告番号:乙1358号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1998-03-5 ; 早大学位記番号:新2633 ; 理工学図書館請求番号:2214t...
我们利用光学衍射仪对离子注入后GaAs中晶态区与非晶态区界面的高分辨晶格象进行了分析。得到了界面附近结构变化的初步结果。由非晶态区到晶态区存在如下五个区域:非晶区;晶核与低维有序区;多晶区;单晶畸变区...
GaAs 的离子注入已被广泛地应用在半导体器件制作中。由于 GaAs 电子有效质量只是 Si 的7%,而且它的能带间隙比 Si 要宽,因而它被广泛地应用在高速集成电路、光电器件、激光器件中。
本文研究了ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ双异质结光波导开关内波导层带隙的载流子注入感生变化．给出了带隙变化值随注入载流子浓度变化的关系曲线，并与带填充理论和带隙收缩理论的计算结果进行了对比分析．中文核心期刊要...
报道了GaAs/GaAlAs多量子阱(MQW)双区共腔(CCTS)结构的双稳态激光器.该器件利用多次离子注入形成电隔离很好的双电极结构,吸收区上加上一定反偏电压时得到了双稳特性,观察到了器件工作于双稳...
用MBE生长设备制造了GaAs/Si/AlAs异质结，通过CV法研究了异质结的带阶和GaAs层在不同温度下生长对0．5分子层Si夹层的影响，得到Si夹层的空间分布随GaAs层生长温度的升高而由局域变为...
成功研制了光子晶体垂直腔面发射激光器，实现了连续电注入激射，工作波长为850nm，最小阈值为2mA，最大阈值为13．5mA，其中光子晶体的晶格常数在0．5～3μm范围，占空比在0.3～0．7范围．发现...
测量并分析了InGaAs/GaAs应变量子阱中的激子发光衰退特性,研究了激子发光寿命与In组分和阱宽的关系。发现In组分增大时,激子寿命变短,而发光寿命与阱宽的关系不大。文章分析了影响发光寿命的诸多因...