Add to ORKG多孔结构的TiO2薄膜和氧化钨薄膜能使其性能得到提升，是当前研究热点之一。本文采用PEG-F127复合模板剂的溶胶-凝胶法制备了多孔-微球TiO2薄膜,用TG-DSC、XRD、SEM、UV-Vis等手段对薄膜进行了表征。分析表明，快速升温更有利于维持多孔的结构；微球数量随PEG用量增加而增加，且随着微球数量增加薄膜在可见光区域透过率降低。 本文另一部分研究内容是提出一种两步制备多孔氧化钨薄膜方法。采用W、Al双靶磁控溅射得到了W-Al合金薄膜，经NaOH溶液腐蚀后得到了多孔的氧化钨薄膜。利用SEM、XPS、UV-Vis-NIR等手段对薄膜进行了表征。结果显示：采用适当的溅射功率可得到平均孔径为100nm左右的多孔氧化钨薄膜，薄膜孔隙度高；薄膜中W的价态为+5价；在近红外区域具有近似平直的透过率曲线
Исследованы электрофизические свойства тонких наноструктурированных пленок оксида индия. Структура и...
[[abstract]]本研究以金屬烷氧化合物(M-OR) 為前驅粉體製作氧化鎢薄膜鍍液，前 驅溶液以異丙醇為溶劑，使用旋塗方式將氧化鎢薄膜塗佈於具有指叉電極之 氧化矽基板上，比較氧化鎢薄膜不同溫度退...
在成功地外延生长超导、铁电、铁磁等多种性质的钙钛矿结构氧化物薄膜的基础上，讨论影响氧化物薄膜外延生长的一些因素．考虑到相形成和薄膜生长动力学，在利用脉冲激光淀积法外延生长氧化物薄膜中衬底温度是十分重要...
采用射频溅射法制备了SnO2气敏薄膜,并在薄膜中掺杂Sb2O3 和Pt用于气敏薄膜的增敏.使用XRD对制备的薄膜进行了结构分析,测量了薄膜的吸收光谱和电阻,并研究了薄膜工艺条件的改变对薄膜结构和性能的...
[[abstract]]本篇論文主要研究使用射頻濺鍍系統在玻璃基板上鍍兩種參數的氧化亞銅薄膜和氧化銅薄膜，再經由光纖雷射加熱系統，設定雷射功率2%、4%和8%，再分別調整雷射加熱移動速度5mm/s、1...
При термообработке тетратиомолибдата аммония при температуре 723-823 К образуются нано- и микрокрист...
[[abstract]]孔洞材料薄膜(porous thin film)具有低介電常數及特殊表面光學特性，應用奈米孔洞薄膜於高頻元件系統中可以使導線寬度縮小，減低雜訊干擾而可以使機板導線層數目增加，本...
アルミニウムおよびその合金を、主として酸性水溶液に浸漬してアノード酸化（陽極酸化）すると、アルミニウム表面にポーラス型アノード酸化皮膜が生成する。ポーラス皮膜はアルマイトやポーラスアルミナともよばれ、...
リアクティブスパッタリング法とは，スパッタリング中にターゲット元素と反応性ガスを反応させながら化合物薄膜を形成する方法である．当研究室では，この方法を用いて溶融法では作成不可能な組成系のガラス薄膜の合...
影响直接外延生长氧化物薄膜的因素有很多,最主要的是保证氧化物薄膜的正确成相和在单晶衬底上成核.直接外延生长时,衬底温度影响到薄膜的成相.衬底温度还影响薄膜的生长动力学,并因此影响薄膜的外延生长取向.由...
Ta2Nを用いた陽極酸化膜キャパシタは，耐熱性の向上を図れるが比誘電率の低下を伴うので，このことを回避するため，Ta－Zr合金の陽極酸化膜キャパシタを作製し，その電気的特性に及ぼす熱処理温度の影響と，...
[[abstract]]本研究主要以使用濺鍍系統在玻璃上濺鍍氧化鋅與氧化亞銅薄膜，並利用田口方法得到最佳化參數因子，由搭配L9(34)直交表以濺鍍功率為A控制因子、氬氧氣流量比為B控制因子、工作壓力為...
透明导电薄膜具有透光率高，导电性好，硬度高，红外热反射特性等优点，广泛应用于平板液晶显示器,太阳能电池,触摸屏等不同的光电器件中。目前得到应用的ITO薄膜主要是采用磁控溅射工艺制备的，但成本昂贵。该论...
[[abstract]]本研究主要利用RF 磁控濺鍍法在塑膠基板沈積二氧化矽薄膜，以作為後續製作薄膜電晶體阻絕層之用，藉由濺鍍製程參數的控制，對不同材質塑膠基板（PET、PES、PMMA）沈積SiO2...
研究成果の概要(和文):本研究では圧電体や強誘電体など機能酸化物のエピタキシャル薄膜を高分子製フレキシブル基板上に形成するための基礎を確立することを目的とする。高分子製フレキシブル基板は耐熱性に乏しく...
Исследованы электрофизические свойства тонких наноструктурированных пленок оксида индия. Структура и...
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[[abstract]]本研究主要利用RF 磁控濺鍍法在塑膠基板沈積二氧化矽薄膜，以作為後續製作薄膜電晶體阻絕層之用，藉由濺鍍製程參數的控制，對不同材質塑膠基板（PET、PES、PMMA）沈積SiO2...
研究成果の概要(和文):本研究では圧電体や強誘電体など機能酸化物のエピタキシャル薄膜を高分子製フレキシブル基板上に形成するための基礎を確立することを目的とする。高分子製フレキシブル基板は耐熱性に乏しく...
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