九州工業大学博士学位論文 学位記番号:生工博甲第72号 学位授与年月日:平成20年3月25日第1章 序論|| 第2章 イオン化スパッタに適したマグネット構造|| 第3章 イオン化スパッタによるゲート酸化膜ダメージの評価|| 第4章 ビアバリアメタル形成用イオン化スパッタ開発|| 第5章 300mm 基板のバリア成膜用イオン化スパッタ開発|| 第6章 結論|| 謝辞|| 付録 A 発光分光による電子温度算出|| 付録 B プラズマシミュレーション|| 付録 B スパッタシミュレーション|| 参考文
[[abstract]]本實驗利用Bridageman生長技術,生長Cu-Zn 合金晶體,生長的晶體以電解拋光法 (electrolytic polishing)處理晶面,藉光學顯微鏡觀察結晶狀況,並...
在微纳米尺度上对活细胞高分辨率成像对生命科学研究具有重要的意义,其将有助于再现正在发生的生命过程、检测细胞对外界刺激做出的响应,甚至观测某些蛋白簇在细胞膜表面的运动。然而直到今天,仍然没有很好的实现上...
[[abstract]]在此研究中,我們利用射頻磁控濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)來製備氧化鋅與鎳鐵薄膜在n-type導電矽基板Si(100)上,形成Ni80...
九州工業大学博士学位論文 学位記番号:生工博甲第72号 学位授与年月日:平成20年3月25日第1章 序論|第2章 イオン化スパッタに適したマグネット構造|第3章 イオン化スパッタによるゲート酸化膜ダメ...
近年のデジタル・コンピュータの高速化により,X線CTやMRIなどが医療診断の場において重要な位置を占めている.一方,電気インピーダンストモグラフィ(EIT)は不適切な線形システム方程式を解く必要がある...
[[abstract]]本文探討鋁合金與黃銅於線切割放電加工之表面變化,當使用傳統加工法(如車床、銑床、磨床等)加工完成之工件表面,會因刀具接觸而使工件產生一層表面硬化層,隨著加工時間越久,最後將導致...
Cu/Low-kデュアルダマシン配線形成プロセスにおけるCu配線膜ポリシングにおいて、超低圧ポリシング条件で高い加工能率を得ることを目的とした新しい電気化学的ポリシング方法を検討した。本方法は導電性表...
本文分析了缝丝法测量强流离子束发射度时系统误差的主要来源,并用模拟计算的方法研究了不同误差来源所带来的误差大小.对于rms发射度测量,因缝采样、忽略缝宽和丝直径、以及空间电荷效应所引起的系统误差均可忽...
Monitoring data on the breakdown voltage of an enameled wire with double polyimide interpolymer insu...
[[abstract]]本論文研究直流磁控濺鍍法(DC Magnetron Sputtering)與射頻磁控濺鍍法(Radio Frequency Magnetron Sputtering)濺鍍以氮化...
Определены оптимальные деформационные и силовые режимы процесса получения равномерного, тонкого, выс...
我們利用陣列掃描法和有限元素法來模擬一個三維電偶極鄰近一維反射式金屬奈米光柵的輻射特性。金屬光柵包括純銀與銀-二氧化矽二種型式,其緊鄰之介質為氮化鎵。我們探討了輻射特性與電偶極的方向及位置的關係。吾人...
Cu/Low-k デュアルダマシン配線形成プロセスにおけるCu 配線膜研磨において、超低圧研磨条件で高い加工能率を得ることを目的として、導電性表層と絶縁層を有する多層構造の電解セルパッドを使用する電気...
用扫描电镜对比分析了电弧离子镀增加直线磁场过滤对沉积TiN和TiAlN薄膜中颗粒的密度和尺寸的影响,,结果表明,TIN薄膜中颗粒的最大直径,从14μm减小到3μm,颗粒密度从lO~9/cm~2。降低到...
電子線照射により欠陥を与えたイオン結晶表面上に蒸着した単結晶銀薄膜の初期成長過程について, イオンビームを用いた手法により解明することを目的とし, 欠陥が生成されたイオン結晶表面の構造解析を行った。高...
[[abstract]]本實驗利用Bridageman生長技術,生長Cu-Zn 合金晶體,生長的晶體以電解拋光法 (electrolytic polishing)處理晶面,藉光學顯微鏡觀察結晶狀況,並...
在微纳米尺度上对活细胞高分辨率成像对生命科学研究具有重要的意义,其将有助于再现正在发生的生命过程、检测细胞对外界刺激做出的响应,甚至观测某些蛋白簇在细胞膜表面的运动。然而直到今天,仍然没有很好的实现上...
[[abstract]]在此研究中,我們利用射頻磁控濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)來製備氧化鋅與鎳鐵薄膜在n-type導電矽基板Si(100)上,形成Ni80...
九州工業大学博士学位論文 学位記番号:生工博甲第72号 学位授与年月日:平成20年3月25日第1章 序論|第2章 イオン化スパッタに適したマグネット構造|第3章 イオン化スパッタによるゲート酸化膜ダメ...
近年のデジタル・コンピュータの高速化により,X線CTやMRIなどが医療診断の場において重要な位置を占めている.一方,電気インピーダンストモグラフィ(EIT)は不適切な線形システム方程式を解く必要がある...
[[abstract]]本文探討鋁合金與黃銅於線切割放電加工之表面變化,當使用傳統加工法(如車床、銑床、磨床等)加工完成之工件表面,會因刀具接觸而使工件產生一層表面硬化層,隨著加工時間越久,最後將導致...
Cu/Low-kデュアルダマシン配線形成プロセスにおけるCu配線膜ポリシングにおいて、超低圧ポリシング条件で高い加工能率を得ることを目的とした新しい電気化学的ポリシング方法を検討した。本方法は導電性表...
本文分析了缝丝法测量强流离子束发射度时系统误差的主要来源,并用模拟计算的方法研究了不同误差来源所带来的误差大小.对于rms发射度测量,因缝采样、忽略缝宽和丝直径、以及空间电荷效应所引起的系统误差均可忽...
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[[abstract]]本論文研究直流磁控濺鍍法(DC Magnetron Sputtering)與射頻磁控濺鍍法(Radio Frequency Magnetron Sputtering)濺鍍以氮化...
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我們利用陣列掃描法和有限元素法來模擬一個三維電偶極鄰近一維反射式金屬奈米光柵的輻射特性。金屬光柵包括純銀與銀-二氧化矽二種型式,其緊鄰之介質為氮化鎵。我們探討了輻射特性與電偶極的方向及位置的關係。吾人...
Cu/Low-k デュアルダマシン配線形成プロセスにおけるCu 配線膜研磨において、超低圧研磨条件で高い加工能率を得ることを目的として、導電性表層と絶縁層を有する多層構造の電解セルパッドを使用する電気...
用扫描电镜对比分析了电弧离子镀增加直线磁场过滤对沉积TiN和TiAlN薄膜中颗粒的密度和尺寸的影响,,结果表明,TIN薄膜中颗粒的最大直径,从14μm减小到3μm,颗粒密度从lO~9/cm~2。降低到...
電子線照射により欠陥を与えたイオン結晶表面上に蒸着した単結晶銀薄膜の初期成長過程について, イオンビームを用いた手法により解明することを目的とし, 欠陥が生成されたイオン結晶表面の構造解析を行った。高...
[[abstract]]本實驗利用Bridageman生長技術,生長Cu-Zn 合金晶體,生長的晶體以電解拋光法 (electrolytic polishing)處理晶面,藉光學顯微鏡觀察結晶狀況,並...
在微纳米尺度上对活细胞高分辨率成像对生命科学研究具有重要的意义,其将有助于再现正在发生的生命过程、检测细胞对外界刺激做出的响应,甚至观测某些蛋白簇在细胞膜表面的运动。然而直到今天,仍然没有很好的实现上...
[[abstract]]在此研究中,我們利用射頻磁控濺鍍系統(RF magnetron sputtering system)來製備氧化鋅與鎳鐵薄膜在n-type導電矽基板Si(100)上,形成Ni80...