RANCANG BANGUN ALAT SPUTTERING DC

Penumbuhan lapisan film tipis dengan metode sputtering DC merupakan salah satu metode penumbuhan lapisan film tipis secara fisika. Pada penelitian ini akan diperoleh alat sputtering DC sederhana. Chamber vakum alat sputtering DC dibuat berbentuk tabung yang terbuat dari silinder kaca dan ditutup dengan pelat stainless steel. Anoda dan katoda alat sputtering DC dibuat dari dua buah pelat silinder stainless steel yang dihubungkan pada catu daya tegangan DC. Anoda alat sputtering DC dilengkapi heater yang terbuat kawat nikelin dengan diameter 0,5 mm sepanjang 3 m yang mampu mencapai suhu 600oC. Chamber atau tabung vakum divakumkan dengan menggunakan pompa vakum EDWARDS 18 dengan tekanan vakum maksimum 5,8 x 10-1 mBar atau 4,35 x 10-1 Torr selama selang waktu 20 menit. Sebagai media pembentuk plasma dialirkan gas argon UHP ke dalam chamber vakum dan diberikan tegangan listrik pembangkit plasma argon sebesar 230 - 420 VDC