Cílem této diplomové práce je ověření vlivu různých nastavení parametrů systému laserové ablace na různé typy mikroelektronických materiálů. Práce má za úkol popsat účel analýzy skrytých defektů v těchto strukturách a způsob jejich řešení. V rámci práce jsou řešeny principy funkce obráběcích a zobrazovacích zařízení na úrovni mikro- či nanometrových velikostí struktur. Předmětem zkoumání je především operační rozdíl mezi procesy obrábění pomocí iontového svazku a pomocí laserového paprsku a jeho integrace do oblasti zajištění kvality. Jde o propojení laserových zařízení se systémy iontových a~elektronových svazků. V práci jsou také popsány výsledky experimentů, během kterých byla provedena analýza defektů vybraných struktur.The aim of this ...