Influence of advanced oxidation process on toxicity of phenolic compounds

W pracy zaprezentowano wyniki badań rozkładu izomerów fenylolofenolu w środowisku wodnym w polu promieniowania UVC i w układzie H2O2/UVC. Szczególną uwagę poświęcono analizie toksyczności roztworów przed i po procesie degradacji. Zanik izomerów fenylofenolu zachodził zarówno przy zastosowaniu promieniowania UVC jak i w układzie H2O2/UVC. Wszystkie roztwory wodne izomerów fenylofenolu wykazywały działanie toksyczne w stosunku do bakterii E. coli. Naświetlanie mieszanin reakcyjnych promieniowaniem UVC nie spowodowało wyeliminowania ich toksyczności. Natomiast pogłębione utlenianie w układzie H2O2/UV przyczyniło się do uzyskania nietoksycznych roztworów poreakcyjnych.This work presents the experimental results of phenylphenol isomers degradation using UVC radiation and advanced oxidation processes in H2O2/UV system. An important step of this research was the toxicity determination of reaction mixtures before and after degradation processes. The highest PP isomers decay rate was obtained during advanced oxidation in H2O2/UV system. The aqueous solutions of all tested compounds exhibit toxicity against bacteria E. coli. UVC photolysis did not eliminate the toxicity of reaction solutions. While, in case of advanced oxidation in H2O2/UV system the non-toxic solutions were obtained