Contrôle et application des faisceaux non-diffractants ultrabrefs à l'ablation à haut rapport de forme

International audienceL’ablation de matériaux par les impulsions laser ultrabrèves est maintenant bien établie comme technologie versatile qui permet la structuration à l’échelle nanométrique de façon très reproductible. Pour plusieurs applications comme la fabrication de composants nanofluidiques ou de cristaux photoniques 2D, il est nécessaire de pouvoir réaliser des canaux et des structures à haut rapport de forme (ie longueur/diamètre) dans les diélectriques. Cependant, ceci est impossible en utilisant les faisceaux gaussiens, en raison de leur profondeur de champ limitée et leur tendance à filamenter à haute intensité