Se depositó recubrimientos de Nitruro de Titanio (TiAlN) por medio de la técnica Magnetrón Sputtering Tríodo variando la presión. El análisis se realizó aumentando y disminuyendo la presión de trabajo, para determinar las curvas de presión. Estas curvas se realizaron en una atmosfera de N2/Ar y utilizando un blanco de Titanio-Aluminio. Se observó un cambio en la microestructura a partir de los análisis de difracción de rayos X
Titanium nitride (TiN and TiN/Ti) and titanium zirconium nitride (TiZrN)thin films were deposited on...
Los recubrimientos de TiN y TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asi...
En este trabajo se presentan los resultados del estudio de los efectos sinergeticos de la corrosión-...
Se depositó recubrimientos de Nitruro de Titanio (TiAlN) por medio de la técnica Magnetrón Sputterin...
Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetrón Sputtering...
En este artículo se presentan resultados experimentales de recubrimientos de materiales que en la ac...
286 p.Los recubrimientos duros que se utilizan actualmente en la Industria para aumentar la vida úti...
se realizó una caracterización mediante difracción de rayos x (DRX) en láminas de acero inoxidable A...
Los recubrimientos duros han sido ampliamente utilizados en la industria metalmecánica para la prote...
La técnica de Fricción Interna (FI) y módulo elástico como métodos para la caracterización de recub...
Se depositaron recubrimientos de TiSiN mediante D.C Magnetrón Sputtering reactivo sobre sustratos de...
Se crecieron recubrimientos de TixAl1-xN empleando la técnica de magnetron sputtering tríodo, varian...
En el Perú existe una demanda creciente por el desarrollo de la tecnología de sputtering, debido a s...
Este documento pretende hacer una revisión de las principales características estructurales y morfol...
Ti-Si-N coatings were deposited by DC reactive magnetron sputtering on stainless steel AISI 304 sub...
Titanium nitride (TiN and TiN/Ti) and titanium zirconium nitride (TiZrN)thin films were deposited on...
Los recubrimientos de TiN y TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asi...
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