Propiedades de las Peliculas de TiN/TiC Crecidas por la Técnica de Arco Pulsado

Los recubrimientos de TiN/TiC fueron depositados por la técnica de Deposición Física en Fase de Vapor asistida por Plasma (PAPVD) por Arco Pulsado. Los recubrimientos fueron analizados por Espectroscopia de fotoelectrones de Rayos X (XPS) y Difracción de Rayos X (XRD). El tratamiento de la señal del espectro angosto XPS y los patrones XRD confirmaron la presencia de TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) y TiCN (Carbonitruro de titanio), con grupo espacial fm-3m, correspondiente a la fase FCC de los compuestos sintetizados