Напыление ультратонких пленок меди методом импульсного магнетронного напыления

РЕФЕРАТ Выпускная квалификационная работа 111 с., 32 рис., 19 табл., __57____источников, 1 прил. Ключевые слова: магнетронная распылительная система, сильноточное импульсное магнетронное распыление, ультратонкие пленки. Объектом исследования является сильноточный импульсный магнетронный разряд и полученные с его помощью ультратонкие пленки меди (толщиной от 5 до 20 нм). Цель работы – исследование влияня параметров сильноточного импульсного магнетронного распыления на структуру, свойства и итоговые эксплуатационные характеристики ультратонких пленок меди. В процессе исследования проводились - экспериментальное исследование параметров сильноточного импульсного магнетронного разряда. В процессе экспериментов были получены образцы ультратонких пленок, толщиной от 5 до 20 нм.Einführung Das Thema der vorliegenden Arbeit ist high-field emission arc zur Erzeugung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten. Künstlich erzeugte Plasmen werden in neuerer Zeit immer häufiger in der sogenannten Plasmatechnologie genutzt, um technisch sehr hochwertige Artikel, aber auch Gegenstände des täglichen Lebens herzustellen. Die Plasmatechnologie gehört dabei eher zu den unauffälligen Technologien, da ihr Einsatz oft nicht auf den ersten Blick zu erkennen ist