METHOD FOR PLASMA ETCHING IN CHLOROCARBON PLASMA

Спосіб плазмового травлення в хлоровуглецевій плазмі, при якому травлення проводять у плазмі, яку одержують високочастотним електромагнітним полем в реакційній камері при пониженому тиску газу та суміші основного газу-реагенту.Способ плазменного травления в хлоруглеродной плазме, при котором травление проводят в плазме, получаемой высокочастотным электромагнитным полем в реакционной камере при пониженном давлении газа и смеси основного газа-реагента.A method for plasma etching in chlorocarbon plasma is proposed. The method comprises performing etching in plasma produced by a high-frequency electromagnetic field in a reaction chamber with low gas pressure and a mixture of the main gas-reagent