Study of photopolyme micro patterning for second harmonic generation

Ce travail a concerné l'étude de la structuration des propriétés optiques non linéaires quadratiques (ONLq) par photopolymérisation de films de résines fonctionnalisées par des chromophores à transfert de charge intramoléculaire. Les propriétés ONLq sont obtenues via l'orientation sous champ électrique des chromophores. La photopolymérisation permet alors de bloquer cette orientation dans les régions illuminées et assure le contrôle de la distribution spatiale des propriétés ONLq. Nous démontrons la structuration à l'échelle micrométrique de la distribution des propriétés ONLq pour la réalisation de dispositifs à quasi accord de phase. Nous interprétons les mesures de relaxation de l'orientation des chromophores dans la matrice polymérisée induite par élévation linéaire de la température. Enfin, nous démontrons la possibilité de créer une distribution contrôlée de la biréfringence en utilisant les contraintes mécaniques induites par une photopolymérisation non uniforme.We present the patterning of quadratic non linear optical (QNLO) properties of crosslinking resins doped with push-pull chromophores. The orientational order of the chromophores required for QNLO properties is realized under an applied electric field. The photopolymerization is then used to freze this orientation in the illuminated areas and to so insure the patterning of QNLO properties. We demonstrate the QNLO properties patterning at a micrometric scale for the fabrication of quasi-phase matching devices. We present a model for the dynamics of the orientational relaxation of the chromophores under progressive heating. Finally, we show how to achieve the control of the distribution of the birefringence through the mechanical stress induced by a non uniform photopolymerization