Díky možnosti dosahovat vysokých teplot umožňuje technologie plazmatického nástřiku jako jediná z dostupných technologií žárového nástřiku deponovat kvalitní povlaky na bázi oxidických keramik (Al2O3, Cr2O3, TiO2, atd.). V posledním desetiletí byla tato technologie výrazně inovována v několika směrech. Jedním z perspektivních řešení je nástřik pomocí kaskádového zdroje plazmatu, poskytujícího plazma s vysokou hustotou a nízkou teplotou. Tato technologie poskytuje ve srovnání s předcházejícími technologiemi řadu příležitostí k dosažení kvalitnějších parametrů deponovaného nástřiku, a to jak z pohledu depoziční účinnosti, tak charakteru mikrostruktury, která je určující z hlediska výsledných funkčních vlastností. Povlaky stříkané plazmatickým...