Submitted by Maria Eneide de Souza Araujo (mearaujo@ipen.br) on 2015-10-08T12:18:50Z No. of bitstreams: 0Made available in DSpace on 2015-10-08T12:18:50Z (GMT). No. of bitstreams: 0Neste trabalho, foram produzidos filmes finos de carbono pela t??cnica de magnetron sputtering usando substratos monocristalinos de alumina com plano-c orientado em (0001) e substratos de Si (111) e Si (100), empregando Co, Ni e Cu como filmes intermedi??rios (buffer-layers). As deposi????es foram conduzidas em tr??s etapas, sendo primeiramente realizadas com buffer-layers de cobalto em substratos de alumina, onde somente ap??s a produ????o de grande n??mero de amostras, foram ent??o realizadas as deposi????es usando buffer-layer de cobre em substratos de Si. Em...