Growth and characterization of stressed heterostructures of InxGa1-x-As/GaAs

Utilizando a técnica de epitaxia por feixe molecular (MBE), crescemos heteroestruturas tensionadas de InxGa1-xAs sobre substratos de GaAs (100). A composição de In, a espessura para a transição 2D-3D e a espessura crítica (hc) foram determinadas através da análise \"in situ\" pelo RHEED. Os valores da hc e da espessura para a transição 2D- 3D foram observadas ser funções da composição do In e da temperatura do substrato. Um estudo do efeito da desorientação do substrato de GaAs (100) de alguns graus sobre as qualidades ópticas (PL) de poços quânticos simples e múltiplos de InxGa1-xAs/GaAs também foi realizado. Microscopia eletrônica por transmissão (TEM) foi utilizada para a verificação da qualidade das interfaces dos poços quânticos de InxGa1-x/GaAs. Algumas estruturas de dupla barreira (AlGaAs/GaAs/InAs/GaAs/AlGaAs) foram crescidas e caracterizadas opticamente (PL)InxGa1-xAs strained heterostructures were grown on GaAs (100) by Molecular Beam Epitaxy (MBE). Indium concentration (x), 2D-3D growth mode transition thickness and critical thickness (hc) were determined by \"in situ\" RHEED analysis. Hc and 2D-3D growth mode transition thickness values were verified to depend on In concentration and substrate temperature. The dependence of the InxGa1-xAs /GaAs simple and multiple quantum wells (SQW and MQW) PL optical quality on the GaAs (100) substrate misorientation was also studied. The SQW interfaces were investigated by Transmission Eletronic Microscopy (TEM). Some double-barrier structures (AlGaAs/GaAs/InAs/GaAs/AlGaAs was also grown and optically characterize