İnce film kristal silisyum heteroeklem üretimi

Amorf silisyum (a-Si) n-tipi katkılı ince filmlerin plazma yardımlı kimyasal buhar biriktirme (PECVD) ve elektron demet buharlaştırma (e-beam) yöntemleri kullanılarak p tipi kristal Si (c-Si) üzerine kaplanmasıyla heteroeklem üretilebilmektedir. Bu üretim metodu GÜNAM laboratuvarında çalışılmakta ve optimizasyonu hali hazırda yapılmaktadır. Bu projede ise amacımız p tipi c-Si üzerine PECVD ya da e-beam ile kaplanan n-tipi a-Si filme yüksek yoğunlukta ışık atımları göndererek soğurma sağlamak, böylece amorf tabakanın lokal olarak sıcaklığını arttırarak sıvı faza geçirmek ve soğumasını ile kristalize olmasını sağlamaktır. Böylece malzeme iletkenlik ve termal özelliklerini iyileştirerek daha etkin çevirim yapabilecek güneş göze üretimi yapma olanağı sağlayacak heteroeklem yapı oluşabilecektir