Influence of thermal annealing on the optical characteristics of thin HfO2 films

Проведено исследование влияния термического отжига при температуре 653– 693 К на воздухе на оптические характеристики тонких пленок диоксида гафния, полученных реактивным ионно-лучевым распылением мишени из гафния. Установлено, что отжиг пленки, полученной при нагретой подложке, привел к снижению пропускания в УФ области спектра, увеличению – в видимой и ИК области и уменьшению поглощения во всем диапазоне измерений. Тhe effect of thermal annealing at 653–693 K in air on the optical characteristics of thin films of hafnium dioxide obtained by reactive ion-beam sputtering of a hafnium target has been studied. It was found that annealing of the film obtained with a heated substrate led to a decrease in transmission in the UV region of the spectrum, an increase in the visible and IR regions, and a decrease in absorption in the entire measurement range