Method to determine a detection capability of the die-to-database mask inspection system in regard to isolated defects

В статье представлены описание и результаты использования новой методики определения обнаружительной способности установок автоматического контроля оригиналов топологии. Эта методика реализована в установках ЭМ-6029Б и ЭМ-6329, которые осуществляют контроль оригиналов топологии СБИС на фотошаблонах путем сравнения топологии фотошаблона с проектными данными. Методика разработана для проведения испытаний с целью определения способности обнаружения дефектов типа прокол и островок (изолированных дефектов).The paper presents a description and results of the use of a new technique to determine the detection capability of the automatic mask inspection systems. This technique is realized in the EM-6029B and EM-6329 systems, which employ the die-to-database inspection method. The technique is designed to determine the capability to detect such defects as pinholes and pindots (isolated defects)