Vacuum-plasmatic microwave discharge resonant type system for plasma chemical ashing of photoresist layers

Цель работы: установление закономерностей и характерных особенностей формирования, поддержания и управления взаимодействием химически активной плазмы СВЧ разряда с поверхностью твердого тела при низком вакууме в плазмотроне резонаторного типа с частичным заполнением плазмой объема резонирующей камеры и на этой основе обеспечение выбора высокоэффективных режимов проведения технологических процессов и совершенствование конструкции оборудования СВЧ плазмохимической обработки материалов