Estudio mediante espectroscopía UV - VIS de pelicúlas de óxido de galio y óxido de aluminio obtenidas por electrolísis

“Durante mucho tiempo la fabricación de dispositivos semiconductores ha estado basada principalmente en diversas técnicas, las cuales algunas requieren modernos y complejos aparatos por ejemplo depósito químico en fase de vapor (CVD), depósito por epitaxia de haces moleculares (MBE). Existen otros métodos de síntesis como Sol – Gel, Hidrotermal y Coloidal que permiten obtener materiales con características físicas y químicas diferentes y específicas. En la presente tesis se propone el método de electrólisis, para la obtención de materiales óxidos, esta técnica ofrece muchas ventajas; por ejemplo: bajo costo y no se requieren equipos complejos y el tiempo de proceso es corto por mencionar algunas, además de que hasta la fecha no ha sido ampliamente estudiada. En el presente trabajo se obtuvieron películas depositas sobre silicio cristalino y se estudiaron algunas de sus características como su morfología y sus propiedades estructurales y ópticas del material. Para el estudio de la morfología se utilizó un microscopio metalográfico, y para el estudio de sus propiedades estructural-óptica se utilizó espectroscopia de absorción ultravioleta y visible (UV – Vis) y difracción de rayos X (XRD)”