Nouvelle filière nanotechnologique sur silicium poreux : Application à des dispositifs photoniques

Cette thèse s\u27inscrit dans le cadre d\u27un projet qui porte sur la mise au point d\u27une filière technologique à base silicium poreux en nanophotonique et en particulier pour des applications en détection chimique ou biologique. Dans ce cadre, l\u27un des verrous technologiques est la micro- ou nanostructuration dans le plan du Si poreux afin de réaliser des cristaux photoniques 1.5D, 2D ou 2.5D. ceci permettrait d\u27accroître de manière significative la sensibilité de détection. L\u27objectif de cette thèse vise à lever ce verrou en mettant au point la technologie de nanostructuration du Si poreux afin de réaliser ces cristaux photoniques. Tout d\u27abord, les méthodes expérimentales sur la fabrication et caractérisation du silicium poreux ont été étudiées. Ensuite, nous avons présenté le cur de ce travail, à savoir : l\u27étude de la gravure plasma du silicium poreux et la mise en place de la technologie pour la nanostructuration. Les études ont porté sur des échantillons de forte (75%) et faible porosité (35%). Les cinétiques de gravures ont été étudiées, et une stratégie originale pour surmonter le problème de gravure RIE de substrat isolant est présentée. Enfin, nous avons présenté l\u27aboutissement de ce travail : la réalisation et la caractérisation optique d\u27un dispositif à cristal photonique à base de la technologie développée dans cette thèse. Cette réalisation expérimentale constitue la validation des travaux effectués dans cette thèse. Nous montrerons que cette approche a permis la réalisation de résonateur photonique très sensible à l\u27environnement