Resumo: Com a drástica diminuição das dimensões nas novas gerações de transistores MOS VLSI, um aumento considerável de efeitos dimensionais no comportamento destes dispositivos tem surgido. Isto traz como conseqüência imediata, a impossibilidade de utilização dos modelos clássicos analíticos no projeto e no estudo destes transistores. A proposta deste trabalho é a de desenvolver um simulador bidimensional para transistores MOSFET de canal curto, que permita uma caracterização precisa destes dispositivos em equilíbrio termodinâmico. Nesta situação, a influência de efeitos dimensionais sobre VT pode ser melhor estudada, possibilitando assim a obtenção de uma primeira aproximação para o projeto destes dispositivo
Orientador: Furio DamianiDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de En...
Submitted by Aglair Aguiar (aglair@ct.ufrj.br) on 2020-03-19T23:28:37Z No. of bitstreams: 1 887622.p...
Este trabalho apresenta uma avaliação da eficiência do dimensionamento e particionamento (folding) d...
Com a drástica diminuição das dimensões nas novas gerações de transistores MOS VLSI, um aumento cons...
O foco deste artigo é apresentar uma análise entre transistores de porta dupla para diferentes compr...
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós...
Resumo: Resumo: Este trabalho apresenta o equacionamento matemático, as simulações e análises detalh...
A redução das dimensões dos dispositivos semicondutores para escalas submicrométricas impõe diversos...
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina. Centro TecnologicoNeste trabalho ap...
Seminário de Iniciação Científica e Tecnológica Universidade Federal de Santa Catarina Centro Tecn...
Resumo: O simulador GMB* faz parte de um ambiente para projeto e programação de aplicações em tempo-...
O continuado desenvolvimento das técnicas de microfabricação tem possibilitado a manufatura de estru...
Neste projeto foram realizadas medidas sobre transistores experimentais 5μm fabricados no Laboratóri...
Diversos modelos teóricos para o descasamento entre dispositivos na tecnologia MOS foram propostos d...
O aumento da densidade de transistores em circuitos integrados (CIs), em virtude dos avanços da tecn...
Orientador: Furio DamianiDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de En...
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Este trabalho apresenta uma avaliação da eficiência do dimensionamento e particionamento (folding) d...
Com a drástica diminuição das dimensões nas novas gerações de transistores MOS VLSI, um aumento cons...
O foco deste artigo é apresentar uma análise entre transistores de porta dupla para diferentes compr...
Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós...
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Orientador: Furio DamianiDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de En...
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Este trabalho apresenta uma avaliação da eficiência do dimensionamento e particionamento (folding) d...