Development of process of deposition of thin films on photopolymerization polymeric substrats

Em todo o mundo inicia-se uma nova era. A qualidade de vida e segurança dependem cada vez mais da capacidade de toda humanidade em resolver problemas cada dia mais complexos e demorados. Com o advento da comunicação e a globalização o tempo cada vez mais torna-se um bem escasso e precioso. Os materiais semicondutores usados para desempenhar as funções lógicas e de memória de alta velocidade utilizados no processamento de informação e hardware de armazenagem são os materiais mais difíceis de serem produzidos. Com relação a estes materiais nesta indústria, a capacidade de transformação é enorme, pois o que era o equipamento mais moderno num piscar de olhos passa a ser obsoleto. Assim, avanços nas áreas de tecnologias de informação estão relacionados a avanços em semicondutores e conseqüentemente em materiais. Conforme aumenta a funcionalidade dos chips, aumentam também substancialmente as alternativas para melhorá-los, porque a demanda por este produto não para de crescer e aumenta exponencialmente com relação à população que os consome. Para satisfazer à demanda por densidades mais elevadas nos chips, serão necessárias novas tecnologias de empacotamento e interconexão e a integração destas com toda a tecnologia microeletrônica. É, pois, neste contexto que se insere o presente trabalho. Um dos objetivos principais foi a obtenção de uma cobertura que pode ser um início de uma nova tecnologia para o desenvolvimento de um ?microchip? sobre materiais poliméricos. É o nascer de uma nova era na área de materiais e dispositivos eletro-eletrônicos. Para a indústria nacional e para o Pólo Industrial de Manaus, talvez seja uma tecnologia de ponta com um material mais barato e acessível a todos. Para a execução deste trabalho foram feitos planejamentos experimentais visando melhorar as condições ?ótimas? para o recobrimento por spin coating. Através da deposição de filmes de óxido de silício sobre lentes oftálmicas produziu-se os filmes de óxido de sílicio que foram depositados através de um reator de Microwave Electron Cyclotron Resonance, com o auxílio de um campo magnético em um plasma constituído por uma mistura de argônio, oxigênio e silana. Esse método de deposição é conhecido como ?ECR?. A estrutura dos filmes de óxidos de silício depositados foi estudada através de transmitância na região do visível. A morfologia das superfícies recobertas com os filmes foi analisada por Microscopia Óptica e também através de Microscopia de Varredura Eletrônica (MEV). Os resultados de transmitância para os filmes mostram que na medida em que a camada é depositada são formadas estruturas que melhoram a proteção oferecida pela cobertura. As micrografias ópticas revelaram que as lentes sofrem um ?stress? em razão da diferença do coeficiente de expansão entre os dois materiais. As micrografias de MEV mostraram, também, que as superfícies melhores protegidas pelo óxido de silício são as obtidas através de fabricação e moldagem feita com resina acrílica, como comprovam os testes anti-risco. A análise de ângulo de contato do filme mostrou que a cobertura serve como camada aderente ao polímero, mas não como camada hidrofóbica, pois o polímero ainda assim absorve água. As medidas de parâmetros S encontradas foram tiradas com base nas características dos protótipos ensaiados e de acordo com as limitações da resposta em frequência do equipamento utilizado para o ensaio. O resultado dos ensaios também não pode ser melhor detalhado, pois o material foi depositado sem a expectativa dessa finalidade inicialmente. Podemos, entretanto, comprovar que a metodologia é viável e a partir do mesmo principio poderão ser desenvolvidas diversas utilidades para essa técnica inovadoraA new era has begun all around the world. The quality of life and health depends more and more on the human capacity of resolving problems that are becoming longer and more complex day by day. As communication and globalization advance, time becomes scarcer and more precious. The semiconductor materials which are used to activate the logical functions, the high velocity memory used in processing information and the storage ?hardware? are the most difficult materials produced in this area. The ability to change is enormous, due to the fact that what was considered the most modern equipment has become obsolete in the blink of an eye. Consequently, the advances in the areas of technological information are related to the advances in those in semiconductors and as result in materials. As the use of the ?chip? increases, the alternatives also become varied, with the objective of improving the chip?s functions, this is because the demand for the product is getting stronger, increasing, when referring to the population, the search for these products. This study has achieved a covering which can be perceived as a beginning to New Technology, in order to create a ?microchip? with polymeric materials. It?s the start of a new era when dealing with the area of electro-electronic materials and models. For the National Industry and for Manaus? Industry Pole, it might be viewed as cheaper and more accessible technology for all. An adaptation of a reactor has become full filled that produces electronic components for a deposition on a polymer substratum (ophtalmic lenses) for the attainment of a treatment of alternative anti-reflexive. This methodology is used in the industry of electronic components, more known as "chip". In this work they had been experiment design facts to optimize the excellent conditions for the covering for spin coating. Through the deposition of silicon oxide films on ophtalmic lenses one produced the silicon oxide films that had been deposited through a reactor of Microwave Electron Cyclotron Resonance, with aid of a magnetic field, a plasma constituted by a mixture of argon, oxygen and silane.This method of deposition is known as "ECR". The structure of deposited the silicon oxide films was studied through transmittance in the region of the visible light. The morphology of the surfaces re-covered with the films was analyzed by Optic Microscopy and also through Scanning Electron Microscopy Analysis (MEV). The results of transmittance for the films show that the measure where the layer is deposited form structures that improve the protection offered for the covering. The MEV micrographs had shown, also, that the surfaces best protection for silicon oxide are the gotten ones through acrylic resin, as they prove the anti-risk tests. The analysis of angle of contact of the film showed that the covering does not serve as hydrophobic layer. The measurements of parameter S which were found, were based on characteristics of the resulted prototypes and the answer limitations regarding the frequency of the equipment used for these readings. Moreover, the overall results can?t be better detailed due to the fact that the material wasn?t deposited with this objective. The methodology is viable, and based on the same principles it can develop diverse utilities to this innovate techniqu