The deposition of Al and AlN ultrathin layers on silicon and graphene substrate

Tato diplomová práce se zabývá přípravou a analýzou ultratenkých vrstev hliníku a nitridu hliníku. Vrstvy byly připraveny depozicí z efuzních cel navržených v rámci předchozí bakalářské práce autora. Jejich konstrukce a testování je v práci rovněž zahrnuta. Experimentálně byly zkoumány vlastnosti hliníkových vrstev na nativním oxidu křemíku, křemíku a grafenu. Rovněž je zde popsána příprava nitridu hliníku pomocí dusíkového iontového zdroje.This master's thesis deals with preparation and analysis of ultrathin films of aluminum and aluminum nitride. Films were prepared by effusion cells designed in previous bachelor's thesis. Cell construction and testing is included in this thesis. Behavior of aluminum on silicon dioxide, silicon and graphene was studied. Preparation of aluminum nitride by effusion cell and nitrogen ion source is described.