Materialentwicklung fuer thermoelektrische Duennschichtsysteme auf der Basis von Silizid- und Skutteruditverbindungen Abschlussbericht

The R+D activities of the Leibniz-Institut fuer Festkoerper- und Werkstoffforschung Dresden had the following goals: 1. Optimisation of silicide films for thermoelectric components (iron silicide, manganese silicide, Ru2Si3 monocrystals); 2. Development of a technology for deposition of skutterudite films on a CoSb basis.Schwerpunkt der Forschungs- und Entwicklungsarbeiten am Leibniz-Institut fuer Festkoerper- und Werkstoffforschung Dresden war 1. die Optimierung der Silizidschichten fuer thermoelektrische Bauelemente (Eisensilizid, Mangansilizid, Ru2Si3-Einkristalle) und 2. Entwicklung einer Technologie zur Abscheidung von Skutteruditschichten auf CoSb-Basis.SIGLEAvailable from TIB Hannover: F04B209 / FIZ - Fachinformationszzentrum Karlsruhe / TIB - Technische InformationsbibliothekBundesministerium fuer Bildung und Forschung (BMBF), Bonn (Germany)DEGerman