OPUS II - Voraussetzungen fuer anwendungsorientierte Optimierung von UV-Strahlquellen und -Schichtoptiken. Teilvorhaben: Schichtoptiken zur effizienteren Nutzung von UV-Strahlung Abschlussbericht

Kaiser, N.
Thielsch, R.
Uhlig, H.
Heber, J.
Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF), Jena (Germany)

Publication date

January 2000

Abstract

SIGLEAvailable from TIB Hannover: F00B1329+a / FIZ - Fachinformationszzentrum Karlsruhe / TIB - Technische InformationsbibliothekBundesministerium fuer Bildung, Wissenschaft, Forschung und Technologie, Bonn (Germany)DEGerman

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OPUS II - Voraussetzungen fuer anwendungsorientierte Optimierung von UV-Strahlquellen und -Schichtoptiken. Teilvorhaben: Schichtoptiken zur effizienteren Nutzung von UV-Strahlung Abschlussbericht

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