Ce travail consiste en l étude de couches minces d alumine et d AlN pour leur intégration dans des dispositifs MEMS et FBAR. Les couches d alumine, déposées à température ambiante et à 800C, présentent des propriétés intéressantes pour les procédés PLD et PECVD, ouvrant un grand nombre d applications avec, pour la PECVD, un taux de dépôt plus élevé et une uniformité en épaisseur plus importante, et pour la PLD de meilleures propriétés mécaniques, optiques et diélectriques. Les conditions de dépôt de couches d AlN hexagonal sur substrats Mo/Si ont été optimisées de façon à obtenir l orientation (002) à la température de substrat la plus basse possible. Cette orientation est obtenue à une température de 800C par PECVD et à une température de ...
Ce projet est consacré à l'étude des propriétés optiques des films minces en nitrure d'aluminium dop...
Le travail traite de l'élaboration par sérigraphie de couches épaisses de ferroélectriques de quelqu...
ALD technique (ALD = atomic layer deposition) offers thin films with properties that complement thos...
Les propriétés piézoélectriques, thermiques, acoustiques et diélectriques du nitrure d aluminium AlN...
Ces travaux concernent la mise au point d'un procédé de synthèse de couches minces AIN et BN à basse...
La synthèse de films minces et de multicouches à base de matériaux piézoélectriques, AlN et ZnO, a é...
L'emploi des alliages d'aluminium dans les industries automobiles et aéronautiques est freiné par un...
Le nitrure d aluminium (AlN) est un semi-conducteur suscitant un vif intérêt pour l optoélectronique...
NXP Semiconductors (Caen) a souhaité industrialiser un MEMS RF intégrable, accordable et bon marché ...
L’objectif scientifique de ce travail de thèse était de proposer des structures de films d’encapsula...
LE NITRURE DE BORE CUBIQUE (C-BN) ET LE NITRURE D'ALUMINIUM (AIN) POSSEDENT DES PROPRIETES EXCEPTION...
Neste trabalho é apresentado um estudo sobre a produção e caracterização do nitreto de alumínio (AlN...
Des revêtements d'alumine préparés par MOCVD à partir d'isopropoxyde d'aluminium (réacteur à mur cha...
Les auteurs étudient au microscope électronique et par diffraction d'électrons les couches évaporées...
Des couches minces de nitrure d'aluminium sont développées sur plusieurs substrats à l'aide d'une pu...
Ce projet est consacré à l'étude des propriétés optiques des films minces en nitrure d'aluminium dop...
Le travail traite de l'élaboration par sérigraphie de couches épaisses de ferroélectriques de quelqu...
ALD technique (ALD = atomic layer deposition) offers thin films with properties that complement thos...
Les propriétés piézoélectriques, thermiques, acoustiques et diélectriques du nitrure d aluminium AlN...
Ces travaux concernent la mise au point d'un procédé de synthèse de couches minces AIN et BN à basse...
La synthèse de films minces et de multicouches à base de matériaux piézoélectriques, AlN et ZnO, a é...
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L’objectif scientifique de ce travail de thèse était de proposer des structures de films d’encapsula...
LE NITRURE DE BORE CUBIQUE (C-BN) ET LE NITRURE D'ALUMINIUM (AIN) POSSEDENT DES PROPRIETES EXCEPTION...
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Des revêtements d'alumine préparés par MOCVD à partir d'isopropoxyde d'aluminium (réacteur à mur cha...
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