DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE D'ETAIN PUR OU DOPE PAR PROCEDE PLASMA CVD BASSE PRESSION (CARACTERISATION ENERGETIQUES ET REACTIONNELLE DE LA DECHARGE PAR TECHNIQUES SPECTROSCOPIQUES ET MODELISATION)

Caracterisation de couches minces de WO_3 preparees par CVD : etude de l'effet electrochrome au sein de ces couches

Davazoglou, Dimitrios

January 1987

SIGLECNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Caracterisations electriques d'oxydes nitrures dans un plasma d'ammoniac

Piot, Bernard

January 1991

SIGLEAvailable from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : T 79507 / INIST-CNRS -...

Mucoviscidose et système oxydant / anti-oxydant (étude de gènes modificateurs)

FLAMANT, Cyril
CLEMENT, Annick

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Etude des mécanismes élémentaires du dépot de couches minces d'oxyde d'étain par le procédé PACVD

PULPYTEL, Jérôme
AREFI-KHONSARI, Farzaneh

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Développement d'une cellule haute pression haute température dans la presse Paris-Edimbourg pour la mesure de propriétés élastiques et de densité (application sur les oxydes de fer)

DEBORD, Régis
POLIAN, Alain

January 2004

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Mecanismes de formation de couches minces d'oxydes en plasma d'oxygene

Pelloie Le Duigou, Brigitte

January 1987

CNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueSIGLEFRFranc

L'Oxydation par Voie Humide (OVH) à l'oxygène moléculaire dans un réacteur tubulaire catalytique à lit fixe automatisé.

TORRES TORRES, José Gilberto
DELACROIX, Alain

January 2003

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Réduction des oxydes d'azote émis lors de la combustion du gaz naturel, par des composés organiques oxygènes

PARK, Jie-Won
DJEGA-MARIADASSOU, Gérald

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Etude des opacités des plasmas denses et chauds

SCHOTT, Romain
DALIMIER, Elisabeth

January 2003

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Depot plasma dans une vapeur d'organometallique de films minces d'oxydes d'aluminium

Talebian, Ali-Asghar

January 1986

SIGLECNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Etude de couches minces de carbure de silicium deposees par CVD assistee plasma basse frequence

Gat, Eric

January 1992

SIGLEAvailable from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : T 82554 / INIST-CNRS -...

Depot par plasma de couches minces de carbone amorphe hydrogene : cinetique de croissance, structure, proprietes optiques et mecaniques

Couderc, Pascal

January 1986

SIGLECNRS T 60029 / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Depot CVD de silicium partiellement oxyde : analyse et modelisation de l'operation

Dominguez, Eric
Cakir, Eliane
Couderc, Jean-Pierre
Dehan, Eric
Scheid, Emmanuel (eds.)
Peyre Lavigne, Andre (comp.)
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), 31 - Toulouse (France). Lab. d'Analyse et d'Architecture des Systemes (LAAS)
Motorola Semiconducteurs S.A., 31 - Toulouse (France)
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), 31 - Toulouse (France). Lab. de Genie Chimique
Toulouse-3 Univ., 31 (France). Lab. de Chimie Physique et Electrochimie
Institut National Polytechnique de Toulouse, 31 (France). Inst. du Genie Chimique

January 1996

Available from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : AR 15940 / INIST-CNRS - Ins...

Modélisation d'un réacteur RF à couplage capacitif en mélange Ar-O2 dans les conditions utilisées pour le procédé de dépôt par voie plasma d'oxyde d'étain

MORSCHEIDT, Willy
AREFI-KHONSARI, Farzaneh

January 2002

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Etude des propriétés de l'oxygène sous haute pression et haute température

WECK, Gunnar
LOUBEYRE, Paul

January 2001

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocCentre Technique Livre Ens. Sup. (774682301) / SudocPARIS-BIUS...

Caracterisation de couches minces de WO_3 preparees par CVD : etude de l'effet electrochrome au sein de ces couches

Davazoglou, Dimitrios

January 1987

SIGLECNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Caracterisations electriques d'oxydes nitrures dans un plasma d'ammoniac

Piot, Bernard

January 1991

SIGLEAvailable from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : T 79507 / INIST-CNRS -...

Mucoviscidose et système oxydant / anti-oxydant (étude de gènes modificateurs)

FLAMANT, Cyril
CLEMENT, Annick

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Etude des mécanismes élémentaires du dépot de couches minces d'oxyde d'étain par le procédé PACVD

PULPYTEL, Jérôme
AREFI-KHONSARI, Farzaneh

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Développement d'une cellule haute pression haute température dans la presse Paris-Edimbourg pour la mesure de propriétés élastiques et de densité (application sur les oxydes de fer)

DEBORD, Régis
POLIAN, Alain

January 2004

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Mecanismes de formation de couches minces d'oxydes en plasma d'oxygene

Pelloie Le Duigou, Brigitte

January 1987

CNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueSIGLEFRFranc

L'Oxydation par Voie Humide (OVH) à l'oxygène moléculaire dans un réacteur tubulaire catalytique à lit fixe automatisé.

TORRES TORRES, José Gilberto
DELACROIX, Alain

January 2003

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Réduction des oxydes d'azote émis lors de la combustion du gaz naturel, par des composés organiques oxygènes

PARK, Jie-Won
DJEGA-MARIADASSOU, Gérald

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Etude des opacités des plasmas denses et chauds

SCHOTT, Romain
DALIMIER, Elisabeth

January 2003

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Depot plasma dans une vapeur d'organometallique de films minces d'oxydes d'aluminium

Talebian, Ali-Asghar

January 1986

SIGLECNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Etude de couches minces de carbure de silicium deposees par CVD assistee plasma basse frequence

Gat, Eric

January 1992

SIGLEAvailable from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : T 82554 / INIST-CNRS -...

Depot par plasma de couches minces de carbone amorphe hydrogene : cinetique de croissance, structure, proprietes optiques et mecaniques

Couderc, Pascal

January 1986

SIGLECNRS T 60029 / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Depot CVD de silicium partiellement oxyde : analyse et modelisation de l'operation

Dominguez, Eric
Cakir, Eliane
Couderc, Jean-Pierre
Dehan, Eric
Scheid, Emmanuel (eds.)
Peyre Lavigne, Andre (comp.)
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), 31 - Toulouse (France). Lab. d'Analyse et d'Architecture des Systemes (LAAS)
Motorola Semiconducteurs S.A., 31 - Toulouse (France)
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), 31 - Toulouse (France). Lab. de Genie Chimique
Toulouse-3 Univ., 31 (France). Lab. de Chimie Physique et Electrochimie
Institut National Polytechnique de Toulouse, 31 (France). Inst. du Genie Chimique

January 1996

Available from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : AR 15940 / INIST-CNRS - Ins...

Modélisation d'un réacteur RF à couplage capacitif en mélange Ar-O2 dans les conditions utilisées pour le procédé de dépôt par voie plasma d'oxyde d'étain

MORSCHEIDT, Willy
AREFI-KHONSARI, Farzaneh

January 2002

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

Etude des propriétés de l'oxygène sous haute pression et haute température

WECK, Gunnar
LOUBEYRE, Paul

January 2001

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocCentre Technique Livre Ens. Sup. (774682301) / SudocPARIS-BIUS...

Caracterisation de couches minces de WO_3 preparees par CVD : etude de l'effet electrochrome au sein de ces couches

Davazoglou, Dimitrios

January 1987

SIGLECNRS T Bordereau / INIST-CNRS - Institut de l'Information Scientifique et TechniqueFRFranc

Caracterisations electriques d'oxydes nitrures dans un plasma d'ammoniac

Piot, Bernard

January 1991

SIGLEAvailable from INIST (FR), Document Supply Service, under shelf-number : T 79507 / INIST-CNRS -...

Mucoviscidose et système oxydant / anti-oxydant (étude de gènes modificateurs)

FLAMANT, Cyril
CLEMENT, Annick

January 2005

PARIS-BIUSJ-Thèses (751052125) / SudocPARIS-BIUSJ-Physique recherche (751052113) / SudocSudocFranceF

DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE D'ETAIN PUR OU DOPE PAR PROCEDE PLASMA CVD BASSE PRESSION (CARACTERISATION ENERGETIQUES ET REACTIONNELLE DE LA DECHARGE PAR TECHNIQUES SPECTROSCOPIQUES ET MODELISATION)

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