Исследовательский стенд для фотохимически стимулированного удаления фоторезиста

Обработка полупроводниковых материалов комбинацией ультрафиолетового излучения и озона считается альтернативой широко применяемым методам сухой очистки и обработке в жидких технологических средах. При рассмотрении возможности применения данного метода в составе технологического маршрута изготовления ИС требуется изучение условий и особенностей его реализации. С целью проведения экспериментов был разработан исследовательский стенд для изучения параметров фотохимически усиленных процессов очистки полупроводниковых подложек и удаления фоторезистивных плёнок в условиях атмосферного давления