Pengaruh Laju Alir Gas Argon Pada Plasma Sputtering Karbon Di Atas Quartz Crystal Microbalance (Qcm) Terhadap Karakter Plasma

Penelitian mengenai karakterisasi plasma argon pada deposisi lapisan tipis karbon telah dilakukan. Proses deposisi lapisan tipis karbon menggunakan metode plasma sputtering. Plasma dibangkitkan dengan variasi laju alir 60, 70, 80, 90, and 100 ml/menit, tekanan 100 Pa, DC bias -600 V, waktu deposisi 30 menit, temperatur substrat 150oC dan tegangan RF 190 volt Karakterisasi plasma menggunakan Optical Emission Spectroscopy (OES) dengan acuan database NIST. Spesies plasma yang dominan adalah Ar I. Temperatur elektron dihitung dengan menggunakan plot Boltzmann. Densitas elektron dihitung dengan menggunakan pelebaran stark. Kenaikan laju alir mengakibatkan penurunan nilai temperatur elektron. Penurunan nilai temperatur elektron disebabkan karena distribusi energi yang diterima oleh masing – masing partikel berkurang. Kenaikan laju alir mengakibatkan kenaikan densitas elektron. Peningkatan densitas elektron disebabkan karena peluang terjadinya proses ionisasi meningkat