Parameter plasma nitrogen merupakan indikator penting dalam perlakuan modifikasi permukaan. Parameter plasma ini meliputi daya, tegangan RF, laju alir, tekanan dan waktu deposisi. Pada penelitian ini, pengaruh tegangan RF plasma nitrogen terhadap parameter internal yaitu temperatur (Te) dan densitas elektron (Ne) terhadap modifikasi pemukaan polistirena di atas permukaan QCM telah dilakukan. Plasma nitrogen yang dihasilkan dengan menggunakan frekuensi RF 2 MHz, dengan laju alir 60 ml/menit, tekanan dasar 4 Pa, tekanan perlakuan plasma 40 Pa, dan waktu 2 menit dibuat konstan. Sedangkan tegangan RF divariasi pada tegangan 60 V, 70 V, 80 V, 90 V, dan 100 V. Teknik deposisi polistirena dengan metode spin coating. Pengolahan data parameter plasm...
Pada penelitian ini dilakukan pengamatan pada permukaan QCM dengan variasi berat molekul polistiren,...
Penelitian mengenai karakterisasi plasma argon pada deposisi lapisan tipis karbon telah dilakukan. P...
Penelitian ini mengoptimasi parameter proses RF-DC plasma N2-H2 pada tahap pre-sputtering dan nitrid...
Perlakuan plasma nitrogen terhadap lapisan tipis polistirena pada kaca telah dilakukan. Lapisan poli...
Telah dilakukan penelitian tentang perlakuan plasma oksigen pada permukaan polistirena di atas Quar...
Penelitian mengenai modifikasi lapisan tipis polistiren dan karakterisasi plasma oksigen telah dila...
Sensor Quartz crystal microbalance (QCM) salah satu aplikasinya dapat digunakan sebagai biosensor u...
Penelitian diagnostik plasma nitrogen menggunakan spektroskopi emisi optik Aurora 4000 pada modifika...
Dalam Fisika dan Teknik, kata plasma menunjukkan gas terionisasi sebagian maupun seluruhnya yang ber...
<em>Suatu metoda baru telah dikembangkan untuk penentuan temperatur elektronik dari plasma non-termi...
Telah dilakukan perlakuan plasma nitrogen terhadap permukaan lapisan polistirena menggunakan variasi...
Pada penelitian ini telah dibuat prototipe alat ozonator yang dapat menghasilkan gas ozon. Alat ini ...
Proses deposisi lapisan tipis bisa dilakukan dengan metode plasma sputtering dengan gas argon. Plasm...
Quartz Crystal Microbalance (QCM) merupakan perangkat yang terdiri dari kristal kuarsa dan dilapisi ...
Telah dilakukan perancangan pada sistem plasma dan pengaruh variasi tekanan chamber terhadap deposis...
Pada penelitian ini dilakukan pengamatan pada permukaan QCM dengan variasi berat molekul polistiren,...
Penelitian mengenai karakterisasi plasma argon pada deposisi lapisan tipis karbon telah dilakukan. P...
Penelitian ini mengoptimasi parameter proses RF-DC plasma N2-H2 pada tahap pre-sputtering dan nitrid...
Perlakuan plasma nitrogen terhadap lapisan tipis polistirena pada kaca telah dilakukan. Lapisan poli...
Telah dilakukan penelitian tentang perlakuan plasma oksigen pada permukaan polistirena di atas Quar...
Penelitian mengenai modifikasi lapisan tipis polistiren dan karakterisasi plasma oksigen telah dila...
Sensor Quartz crystal microbalance (QCM) salah satu aplikasinya dapat digunakan sebagai biosensor u...
Penelitian diagnostik plasma nitrogen menggunakan spektroskopi emisi optik Aurora 4000 pada modifika...
Dalam Fisika dan Teknik, kata plasma menunjukkan gas terionisasi sebagian maupun seluruhnya yang ber...
<em>Suatu metoda baru telah dikembangkan untuk penentuan temperatur elektronik dari plasma non-termi...
Telah dilakukan perlakuan plasma nitrogen terhadap permukaan lapisan polistirena menggunakan variasi...
Pada penelitian ini telah dibuat prototipe alat ozonator yang dapat menghasilkan gas ozon. Alat ini ...
Proses deposisi lapisan tipis bisa dilakukan dengan metode plasma sputtering dengan gas argon. Plasm...
Quartz Crystal Microbalance (QCM) merupakan perangkat yang terdiri dari kristal kuarsa dan dilapisi ...
Telah dilakukan perancangan pada sistem plasma dan pengaruh variasi tekanan chamber terhadap deposis...
Pada penelitian ini dilakukan pengamatan pada permukaan QCM dengan variasi berat molekul polistiren,...
Penelitian mengenai karakterisasi plasma argon pada deposisi lapisan tipis karbon telah dilakukan. P...
Penelitian ini mengoptimasi parameter proses RF-DC plasma N2-H2 pada tahap pre-sputtering dan nitrid...