Perancangan Sistem Deposisi Karbon Metode Sputtering Dan Studi Pengaruh Tegangan Listrik Pembangkit Plasma Pada Proses Deposisi

Penelitian mengenai pengaruh tegangan terhadap deposisi karbon telah dilakukan. Metode yang digunakan untuk penelitian ini adalah sputtering. Dilakukan pembuatan beberapa alat yang ditambahkan ke dalam sistem plasma untuk mendukung proses deposisi. Parameter yang digunakan pada proses deposisi adalah tekana 40 pa, laju alir 54 ml/menit, jarak substrat dengan bahan target 55 mm, suhu substrat 200 0C, waktu deposisi 1 jam dan teganga divariasi sebesar 80 volt, 100 volt dan 120 volt. Karbon yang digunakan untuk proses deposisi ini berbentuk pellet dan yang digunakan sebagai pembombardirnya adalah plasma argon. Karakterisasi plasma argon dilakukan menggunakan optical emission spectroscopy (OES) Aurora 4000 dengan acuan database NIST dengan hasil semakin tinggi tegangan yang digunakan maka semakin besar intensitas emisi plasma argon. Selain itu, intensitas emisi plasma argon juga semakin kecil ketika ditambahkan bahan target karbon dalam bentuk pellet di dalam sistem plasma. Spesies plasma yang lebih dominan muncul adalah Ar 1. Karakterisasi morfologi lapisan menggunakan mikroskop optik dengan hasil semakin tinggi tegangan yang digunakan maka penyebaran karbon semakin merata