Щільність поверхневих станів в 3D топологічних ізоляторах у присутності магнітного поля з урахуванням гексагональних спотворень решітки

Описано поведінку щільності поверхневих станів (DOS) в 3D топологічних ізоляторах Rashba-типу у присутності статичного магнітного поля. Враховується вплив гексагонального ефекту викривлення, властивого другому поколінню топологічного ізолятора, виконаного на основі Bi2Se3 і Bi2Te3. У роботі запропоновано метод чисельного знаходження DOS, що враховує вплив зовнішнього магнітного поля. Ми показали, що поведінка DOS в цьому топологічному ізоляторi має якісні відмінності від поведінки 2D електронного газу зі спін-орбітальною взаємодією Rashba-типу без гексагонального ефекту викривлення. Результати нашої роботи показали, що вже у випадку досить слабких полів замість очікуваного зростання DOS зі збільшенням прикладеного магнітного поля спостерігається її зменшення. Оцінки порогової величини поля дають порядок 1-10 Гс.The behavior of the density of surface states (DOS) in 3D topological insulators of Rashba-type in the presence of static magnetic field is described in the paper. The influence of the hexagonal warping effect which is inherent to second generation of the topological insulator made on the basis of Bi2Se3 and Bi2Te3 is taken into account. In our work, a method is proposed for numerically determining the DOS, taking into account the influence of an external magnetic field. We have shown that the behavior of the DOS in these topological insulators has the qualitative differences from the behavior of 2D electron gas with spin-orbit interaction of Rashba-type without hexagonal warping effect. The results of our work have shown that in case of sufficiently weak fields, instead of the expected increase in the DOS with increasing applied magnetic field, there is observed its decrease. Estimated threshold values of the field are of the order of 1-10 G