Інженерія забороненої зони в нанокристалічних тонких плівках NiO, отриманих методом спрей-піролізу з розпиленням Fe

Тонкі плівки оксиду нікелю, легованого Fe (NiO:Fe), з різною концентрацією Fe (від 0 % до 10 %) вирощували на скляній підкладці методом спрей-піролізного розпилення. Досліджено вплив різних концентрацій Fe на структурні, морфологічні, оптичні та електричні властивості. Рентгенограми показують, що при низькій концентрації Fe в осадженій тонкій плівці з кубічною кристалічною структурою присутня тільки NiO, тоді як NiFe2O4 з'єднання з кубічною кристалічною структурою осідає при більш високій концентрації Fe. Встановлено, що розмір кристалітів плівок зменшується з 15.16 нм до 7.41 нм із збільшенням концентрації Fe. Морфологія виготовлених тонких плівок NiO:Fe вивчалася скануючою електронно-емісійною мікроскопією (FESEM) з енергодисперсійним спектрометром (EDS). Зображення FESEM показують, що легування Fe не впливало на морфологію тонких плівок NiO:Fe. Спектри EDS підтверджують утворення NiO, легованого Fe, на поверхні підкладки. Оптичні дослідження показали, що поглинання у видимій області збільшується зі збільшенням концентрації Fe. Оптична ширина забороненої зони зменшується зі збільшенням концентрації Fe. Всі плівки мають електричний опір порядка 104 Ом∙см, який збільшується з концентрацією Fe.Thin films of Fe doped nickel oxide (NiO:Fe) with different Fe doping concentration (from 0 % to 10 %) were grown on glass substrate by employing simple spray pyrolysis technique. The effect of different doping concentration of Fe on the structural, morphological, optical and electrical properties has been studied. XRD diffraction patterns show that at low Fe concentration only NiO lattice is present in the deposited thin film with cubic crystal structure, whereas NiFe2O4 compound with cubic crystal structure is deposited at higher Fe concentration. The crystallite size of the films is found to decrease from 15.16 nm to 7.41 nm with an increase in Fe concentration. Morphology of the prepared NiO:Fe thin films was characterized by field emission scanning electron microscopy (FESEM) attached with energy dispersive spectrometer (EDS). FESEM images show that Fe doping did not have any significant effect on the morphology of NiO:Fe thin films. EDS spectra confirm the formation of Fe doped NiO over the substrate surface. The optical investigation revealed that the absorbance in the visible region is found to be increased with an increase in Fe concentration. The optical band gap decreases with an increase in Fe concentration. All the films have electrical resistivity of the order of 104 Ω.cm and are found to be increased with Fe concentration