Cristalización y morfología superficial de películas delgadas de Ag/SiO2 tratadas térmicamente

In this work, the structural and morphological properties of 60 nm thick silver thin films growth on SiO2 substrates and thermally treated at different temperatures from 250 to 1000℃ are studied. We found that the silver thin film is crystallized in the [111] direction when the annealing temperature is increased and the surface roughness evolves forming islands. However, between the annealing temperatures from 800 to 900℃ a change in the preferred orientation to the [200] direction is observed. This change is discussed in terms of the diffusion processes.En este trabajo se estudia las propiedades estructurales y morfológicas de las películas delgadas de plata de 60 nm de espesor, depositadas sobre sustrato de SiO2 y tratadas térmicamente a distintas temperaturas desde 250 hasta 1000℃. Se ha encontrado que al incrementar la temperatura de recocido, la película de plata se cristaliza en la dirección [111] aumentando la rugosidad superficial y formando islas. Sin embargo, entre la temperatura de recocido de 800 a 900°C se observa un cambio en la orientación preferencial a la dirección [200]. Se discute este cambio de orientación mediante los procesos de difusión