Adhesion of a-SiOC:H films on planar substrates

Tato bakalářská práce se zabývá přípravou tenkých vrstev plazmových polymerů připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze na plošných substrátech. Jako monomer byl použit tetravinylsilan. Byly připraveny dvě série vzorků. Vzorky první série byly připraveny při různých hodnotách efektivního výkonu z čistého tetravinylsilanu a vzorky druhé série byly připraveny z depoziční směsi tetravinylsilanu s různým obsahem kyslíku při stejném efektivním výkonu. Tloušťka vrstev byla stanovena spektroskopickou elipsometrií a chemická struktura infračervenou spektroskopií. Pro určení míry adheze byla použita vrypová zkouška, ze které byla stanovena kritická normálová síla selhání adheze vrstev. Podoba provedených vrypů byla získána pomocí mikroskopie atomárních sil (AFM). Ze získaných dat byla posouzena možnost zlepšení adheze změnou efektivního výkonu a obsahu kyslíku v depoziční směsi.This bachelor thesis deals with preparation of thin films of plasma polymers prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Tetravinylsilane was used as a monomer. Two sets of samples were prepared. Samples of the first set were prepared at different effective powers from pure tetravinylsilane and samples of the second set were prepared from deposition mixture of tetravinylsilane with different oxygen content at constant effective power. The film thickness was evaluated by spectroscopic ellipsometry and chemical structure by infrared spectroscopy. A scratch test was used to determine adhesion characterized by the critical normal load. An appearance of performed scratches was obtained by atomic force microscopy (AFM). Film adhesion influenced by the effective power and oxygen content in deposition mixture was discussed based on the received data.