Fabricación de estructuras para cristales fotónicos basados en silicio macroporoso

Este proyecto tiene como objetivo fabricar estructuras de níquel utilizando silicio macroporoso como molde. La aplicación inicial de estas estructuras es el diseño y fabricación de cristales fotónicos de níquel. Para cumplir con el objetivo, se han caracterizado los procesos de fabricación de silicio macroporoso 2D, silicio macroporoso modulado en profundidad y silicio macroporoso 3D. También se ha realizado la caracterización del crecimiento de níquel en medios porosos, utilizando alúmina porosa. El proceso elegido para crecer níquel es el electrodepósito. En el tratamiento de las estructuras, se han utilizado tecnologías de fabricación de microsistemas, tales como micromecanizado de superficie (evaporación, oxidación, RIE), micromecanizado de volumen (ataque isotrópico, HF y anisotrópico, KOH). Luego se ha rellenado las estructuras de silicio macroporoso con níquel y se ha demostrado que es posible fabricar estructuras positivas y negativas de níquel en 2D, moduladas en profundidad y 3D. Para las estructuras positivas se ha utilizado polydimetilsiloxano (PDMS) como material sacrificial. También se han fabricado estructuras negativas de polydimetilsiloxano. Las estructuras de silicio macroporoso se han fabricado utilizando la tecnología desarrollada en el Grupo de Micro y Nano Tecnologías del Departamento de Ingeniería Electrónica de la UPC. Para determinar su comportamiento como cristales fotónicos, se han realizado medidas de reflexión en las estructuras fabricadas