학위논문 (박사)-- 서울대학교 대학원 : 기계항공공학부, 2014. 8. 이우일.나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint Lithography, NIL) 공정은 나노 스케일의 미세패턴을 저비용으로 대량 생산할 수 있는 기술이다. NIL 공정에서는 기판위에 수지를 도포한 후 패턴이 새겨진 몰드가 수지를 눌러, 몰드위의 패턴을 수지 위로 전사시킨다. NIL 공정은 사용되는 수지의 종류에 따라 열가소성 수지를 사용하는 Thermal NIL과 UV경화성 수지를 사용하는 UV NIL로 구분된다. UV 경화성 수지의 경우 점도가 낮고 경화 속도가 빠르기 때문에 고해상도 패턴의 대량 생산하기에는 UV NIL이 보다 적합하다. 본 연구는 UV NIL 공정 중 하나인 Step and Flash Imprint Lithography(SFIL) 공정에서의 수지 유동과 이형 특성을 다룬다. SFIL 공정에서의 수지 유동을 분석하기 위하여 수치해석 프로그램을 개발하였다. 다양한 수지 액적의 배치 방법에 따른 수지 퍼짐 시간을 잔류층 두께를 고 려하여 분석하였다. 액상 수지가 패턴 내부로 충전되는 과정 또한 수치해석을 통하여 분석하였다. 모세관 현상과, 패턴 내부에 갇힌 기체의 용해과정을 고려하였으며, 패턴의 크기, 임프린트 압력, 진공도 등의 영향을 살펴 보았다. 마지막으로, 몰드가 이형되는 과정에서 발생하는 이형력과 응력 분포 등을 유한요소 해석을 통해 분석하였다. 몰드와 수지간의 부착력을 구현하기 위하여 몰드와 수지의 경계면에 C...