Décanalisation par un défaut d'empilement

The influence of a stacking fault on planar channeling of charged particles is described. A channelon reaching the stacking fault suffers a sudden variation of its transverse energy, and is dechanneled if this new energy is greater than the critical one. The probability of presence of the channelon between two ordinates where this condition is fulfilled has to be determined. This probability depends on the particle-atom minimal approach distance, which can thus be measured by a dechanneling experiment. A complete calculation has been carried out for α channelons which move along { 111 } planes in gold containing intrinsic stacking faults. The calculated dechanneling coefficient Γ is, for different minimal approach distances d a : [FORMULA] These results are in good agreement with an experiment giving Γ = 0.24 for α channelons moving along between { 111 } planes of gold.On décrit l'influence d'un défaut d'empilement sur la canalisation, supposée planaire, de particules chargées. Une particule atteignant le défaut d'empilement subit une brusque variation d'énergie transverse, et elle est décanalisée si cette nouvelle énergie est supérieure à l'énergie transverse critique. On est donc amené à calculer sa probabilité de présence entre deux ordonnées pour lesquelles cette condition est remplie. Cette probabilité dépend de la distance minimale d'approche particule-atome, qui peut ainsi être mesurée par une expérience de décanalisation. Un calcul complet a été effectué pour des canalons α se propageant le long des plans { 111} dans un réseau d'or contenant des défauts d'empilement intrinsèques. Le coefficient de décanalisation Γ ainsi déterminé a pour valeurs, selon la distance minimale d'approche da :[FORMULE] Ces résultats sont en bon accord avec l'expérience qui donne r = 0,24 pour des canalons α se propageant le long de dans les plans {111} d'or