Dispositif expérimental en ultra-vide permettant le dépôt de couches minces et l'étude « in situ » de leurs propriétés galvanomagnétiques

The device constructed permits one to prepare thin films by evaporation in ultra high vacuum (5 × 10-10 torr), then, to measure the galvanomagnetic coefficients of these films, constantly held in ultra high vacuum. The substrate temperature can be controlled during the evaporation ; the mica-substrate may be cleaved in the ultra high vacuum while a specially shaped crucible permits an intensive outgassing before the evaporation ; finally, regulation of the evaporation rate and the measurement of the partial pressures with a residual gas analyser, permits the control of most of the important parameters which have an influence on the formation of the films.Le dispositif réalisé permet de préparer des couches minces par évaporation sous ultra-vide (5 × 10-10 torr), puis d'étudier, dans la même enceinte, les propriétés galvanomagnétiques de ces couches constamment maintenues en ultra-vide. La température θ du support peut être contrôlée pendant le dépôt et pendant les mesures ; le support, en mica, peut être clivé sous ultra-vide, tandis qu'un creuset de forme spéciale permet un dégazage intensif avant l'évaporation ; enfin, une régulation de la vitesse d'évaporation et une mesure des pressions partielles à l'aide d'un analyseur de gaz résiduels permettent le contrôle de la plupart des paramètres importants intervenant lors de la formation des couches