Formation et propriétés de l'interface métal-semiconducteur et de la barrière de Schottky

In this paper we review fondamental points in the formation of Metal Semiconductor contact. After a brief historical view in order to emphasize the role of physical and chemical parameters we describe typical results conceming the formation, stage by stage, of the III-V metal contacts. We compare the surface Fermi level pinning induced by cleavage defects, oxygen adsorption, metal submonolayer deposition and the pinning in the diodes. Then we briefly present and discuss the results and the models which are used to explain them. We conclude that, at this time, there is no synthetical model able to explain all the experimental results.Après un rappel succinct de l'histoire du contact destiné à mettre en évidence la façon dont s'est effectuée la prise de conscience sur le rôle des différents paramètres et la démarche de recherche qui en a résulté, on s'attache tout d'abord, à l'aide de quelques exemples, à illustrer la méthodologie actuelle basée sur un suivi pas à pas de la formation du contact. On présente donc succinctement des méthodes d'études de propriétés de surfaces, des toutes premières phases de l'interaction, de la formation de la diode, ainsi que quelques résultats significatifs. On s'attache ensuite à l'analyse des résultats et expose les différents modèles, anciens comme tout récents, utilisés pour les expliquer. On conclut qu'aucun modèle à l'heure actuelle ne permet une synthèse correcte de l'ensemble des résultats, ce qui implique un effort de recherche accru