Instabilité électrostatique ionique dans une décharge au césium

The stability of caesium " Q " type machines is analysed for hot plasma-beam interactions in a very low frequency range in the sheath and in the plasma. A simple sheath theory allows calculation of plasma potential and of current variations as functions of the applied voltage between the emitters. It can be seen that in a general way, a caesium machine working in a vapor pressure mode can be stable, but with direct injection an instability appears above a critical density value when a voltage i s applied between the emitters. Apparently, such an instability is observed in a Cs filled sealed bulb, stable with respect to the sheath and the resistivity, and is attributed to asymmetrics of the emitters.La stabilité des machines au césium du type « machine Q » est analysée pour des intéractions faisceau plasma chaud dans les gaines et dans le plasma. Une théorie simple de gaine permet de déterminer les caractéristiques tension courant et les variations du potentiel plasma avec la tension appliquée entre les émetteurs. Les mesures effectuées dans une ampoule scellée vérifient bien les résultats attendus. On montre qu'en général une machine au césium fonctionnant en régime de pression de vapeur saturante peut être stable mais qu'une machine du type « Q » à injection directe sur les émetteurs devient instable au-dessus d'une densité critique lorsqu'une tension est appliquée entre les émetteurs. Une instabilité du même type est mise en évidence dans une ampoule scellée fonctionnant dans un régime de stabilité de gaine, et est attribuée aux dissymétries des émetteurs