Filtering of electron images of crystal defects

The interpretation of electron micrographs becomes easier after filtering of the photographic and electronic noise. The filtering process can be optical or numerical. The use of mask in the Fourier space must not disturb too much the spectrum of the information of interest. The influence of four mask shapes is studied on two nearly similar test objects : atomic columns near the core of germanium crystal dislocations. The optimal mask shape is applied to a real electron micrograph of a high resolution electron image of dislocation.Pour rendre l'interprétation des images obtenues au microscope électronique plus aisée, il est nécessaire de filtrer le bruit photographique et électronique. Le filtrage peut être soit optique soit numerique. Cependant l'utilisation des masques ne doit pas perturber le spectre de Fourier du signal au point d'altérer l'image des défauts cristallins observés. On présente diverses formes de masque et leur influence sur la restitution de l'image d'objets tests. Enfin un filtrage numérique est applique à une image de colonnes atomiques autour d'une dislocation obtenue réellement au microscope électronique