Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV

Le but de cette étude est de développer un diagnostic de mesure de concentration de Si0 adapté à un procédé industriel de dépôt d'oxydes de silicium sur polymères par décharge a barrière diélectrique atmosphérique (DBD). Deux méthodes spectroscopiques basées sur des techniques d'absorption et d'auto-absorption ont été développées. La concentration de Si0 a été estimée par ajustement des spectres synthétiques calculés sur les spectres expérimentaux. Ces deux méthodes permettent de suivre l'évolution temporelle de Si0 durant les phases de décharge et de post-décharge