Electrodéposition de multicouches magnétiques Cu/M (M = Métal de transition ou alliage)

Nous avons développé une technique d'électrodéposition de multicouches par potentiel pulsé, piloté par ordinateur. L'électrolyte contient des sels des métaux de transition en concentrations importantes et le sel de cuivre en très faible quantité. Le potentiel est alternativement pulsé au potentiel de dépôt du cuivre et à celui du métal de transition. Les durées des différentes impulsions sont ajustées de manière à contrôler les quantités d'électricité utilisées et, par suite, les épaisseurs individuelles des couches. Des multicouches Cu/Co et Cu/Fe20Ni80 (Permalloy) ont été réalisées sur substrats de cuivre, de silicium ou de verre, d'épaisseurs individuelles variant de 0,5 nm 30 nm. La régularité et la cohérence entre les couches sont contrôlées par diffraction des rayons X en incidence rasante et microscopie électronique en transmission. Le rapport de magnétorésistance est mesuré