Fabrication of epitaxially grown functional oxide thin films on　flexible polymer substrate.

研究成果の概要(和文):本研究では圧電体や強誘電体など機能酸化物のエピタキシャル薄膜を高分子製フレキシブル基板上に形成するための基礎を確立することを目的とする。高分子製フレキシブル基板は耐熱性に乏しく、機能性酸化物をエピタキシャル成長させるために必要な数100℃ 以上の加熱に耐えることができないため、耐熱性に優れるMgO基板上に良質の薄膜を作製したのち、これを高分子製フレキシブル基板に接着してからMgO基板を除去するという新しい作製プロセスを提案し、遷移金属酸化物のエピタキシャル薄膜をフレキシブル化するための基礎を確立した。 研究成果の概要(英文) : The purpose of the study is to clarify the fundamental knowledge and the process procedure for the fabrication of epitaxial functional oxides, i. e. , piezoelectric, ferroelectric and so on, onto flexible polymer substrates. Generally, flexible polymer cannot resist the temperature of more than hundreds centigrade, due to the poor heatproof. In order to resolve the problem, the novel process for the flexible epitaxial oxide thin films was proposed. First, high quality oxide thin film is epitaxially grown on Mgo substrate which is heatproof. Then the sample is glued to flexible polymer substrate. Finally, the MgO substrate is completely dissolved by etching process. In this study, basic procedure of the process was established.研究種目：若手研究(B); 研究期間：2010～2011; 課題番号：22760013; 研究分野：工学; 科研費の分科・細目：応用物理学・工学基礎、応用物性・結晶工