As variações nas características elétricas de dispositivos MOS são uma preocupação muito importante no projeto, manufatura e operação de circuitos integrados (CIs). Com a redução contínua (escalamento) das dimensões na tecnologia CMOS, variabilidade de processo se tornou um grande problema, afetando o desempenho e o rendimento positivo na produção destes circuitos integrados (CIs) densamente construídos. Nos atuais MOSFETs em escala abaixo de 100nm, a variação estatística de processo está aumentando e impõe um grande desafio para o projeto de circuitos analógicos e digitais. Em uma tentativa de encarar este desafio, veículos de teste estão sendo pesquisados e desenvolvidos para oferecer uma visão quantitativa sobre tais variações elétricas....
This work proposes a theoretical and experimental study related to switching losses in field-effect ...
Desde la invención en 1960 del transistor de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET por s...
Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Electrical Engineering and Computer...
As variações nas características elétricas de dispositivos MOS são uma preocupação muito importante ...
Microelectronic systems and their applications are everywhere in the current human civilization, fro...
O efeito das variações intrínsecas afetando parâmetros elétricos de circuitos fabricados com tecnolo...
El trabajo desarrollado en esta tesis se ha enfocado en el análisis y estudio del impacto que tienen...
Devido às limitações físicas encontradas nos dispositivos MOSFET, foi necessário introduzir a tecnol...
No regime em nanoescala da tecnologia VLSI, o desempenho dos circuitos é cada vez mais afetado pelos...
La miniaturisation des transistors MOSFETs sur silicium massif présente de nombreux enjeux en raison...
Circuitos integrados VLSI (Very Large Scale Integration) usando nanotecnologia demandam novos materi...
Existe um consenso de que os transistores CMOS irão em breve ultrapassar a barreira nanométrica, per...
The scaling of bulk MOSFETs transistors is facing various difficulties at the nanometer era. The var...
This work proposes a theoretical and experimental study related to switching losses in field-effect ...
Desde la invención en 1960 del transistor de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET por s...
Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Electrical Engineering and Computer...
As variações nas características elétricas de dispositivos MOS são uma preocupação muito importante ...
Microelectronic systems and their applications are everywhere in the current human civilization, fro...
O efeito das variações intrínsecas afetando parâmetros elétricos de circuitos fabricados com tecnolo...
El trabajo desarrollado en esta tesis se ha enfocado en el análisis y estudio del impacto que tienen...
Devido às limitações físicas encontradas nos dispositivos MOSFET, foi necessário introduzir a tecnol...
No regime em nanoescala da tecnologia VLSI, o desempenho dos circuitos é cada vez mais afetado pelos...
La miniaturisation des transistors MOSFETs sur silicium massif présente de nombreux enjeux en raison...
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Existe um consenso de que os transistores CMOS irão em breve ultrapassar a barreira nanométrica, per...
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Desde la invención en 1960 del transistor de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET por s...
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