Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi

Simulointiohjelmaa SUPREM2 voidaan käyttää apuvälineenä suunniteltaessa uutta puoliiohdekomponenttien valmistusprosessia tai kehiteltäessä jo olemassa olevaa prosessia. Ohjelma laskee prosessiaskeleiden, epitaktinen kasvatus, ioni-istutus, oksidointi ja diffuusio, aikana tapahtuvan konsentraatioprofiilin muutoksen. Lisäksi se laskee pn-liitosten syvyydet sekä puolijohdekomponenttien sähköiset suureet, neliövastuksen ja kynnysjännitteen. Aluksi käydään läpi eri prosessivaiheita kuvaavia matemaattisia malleja ja tarkastellaan lyhyesti simulointiohjelman rakennetta. Uusi yhteispohjoismainen CMOS-prosessi, nimeltään NordiCMOS, on simuloitu SUPREM2:lla. Simuloidut tulokset vastaavat hyvin muualla mitattuja vastaavan prosessin arvoja. Tavoitteena on saada toimiva prosessi suunnittelusääntöineen